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高比表氫氧化鈣設(shè)備與普比表氫氧化鈣設(shè)備有何區(qū)別?

來(lái)源: 桂林礦機(jī)時(shí)間: 2024-12-30 11:41

高比表氫氧化鈣設(shè)備依賴(lài)精密工藝和自動(dòng)化控制,普比表氫氧化鈣設(shè)備以傳統(tǒng)粗放工藝為主;高比表氫氧化鈣產(chǎn)品性能優(yōu)越,適用于高附加值場(chǎng)景,普比表氫氧化鈣產(chǎn)品滿(mǎn)足基礎(chǔ)需求。另外高比表氫氧化鈣設(shè)備投資高但利潤(rùn)空間大,普比表氫氧化鈣設(shè)備成本低但競(jìng)爭(zhēng)激烈。


高比表氫氧化鈣設(shè)備 普比表氫氧化鈣設(shè)備
產(chǎn)品特性 比表面積大(通常>20m²/g)、活性高、反應(yīng)速度快、純度高(≥95%)、雜質(zhì)少、顆粒均勻細(xì)膩 比表面積。ㄍǔ<10m²/g)、活性較低、反應(yīng)速度慢、純度一般(85%-90%)、顆粒粗糙
生產(chǎn)工藝 精密工藝(如噴霧碳化法、動(dòng)態(tài)水合反應(yīng)),需控制溫度(<100℃)、壓力、反應(yīng)時(shí)間(分鐘級(jí)) 傳統(tǒng)工藝(如靜態(tài)水合反應(yīng)或機(jī)械消化),工藝簡(jiǎn)單,反應(yīng)時(shí)間長(zhǎng)(小時(shí)級(jí))
設(shè)備要求 復(fù)雜設(shè)備(反應(yīng)釜、噴霧干燥機(jī)、精密分選系統(tǒng)),需自動(dòng)化控制,投資和維護(hù)成本高 簡(jiǎn)單設(shè)備(消化機(jī)、普通干燥機(jī)),人工操作為主,投資和維護(hù)成本低
原料要求 需高純度生石灰(CaO≥90%),雜質(zhì)控制嚴(yán)格 普通生石灰(CaO≥80%),原料要求較低
應(yīng)用領(lǐng)域 高端領(lǐng)域:環(huán)保(煙氣脫硫、廢水處理)、精細(xì)化工、醫(yī)藥、食品添加劑、納米材料制備 基礎(chǔ)領(lǐng)域:建筑(砂漿、涂料)、農(nóng)業(yè)(土壤調(diào)節(jié))、普通工業(yè)(中和劑、干燥劑)
生產(chǎn)成本 高(原料、能耗、設(shè)備折舊成本高) 低(原料廉價(jià)、能耗低、設(shè)備成本低)
產(chǎn)品價(jià)格 高(市場(chǎng)價(jià)約3000-6000元/噸) 低(市場(chǎng)價(jià)約800-1500元/噸)
環(huán)保性能 生產(chǎn)過(guò)程需控制粉塵排放,可能配套尾氣處理系統(tǒng) 粉塵污染較大,環(huán)保要求較低
市場(chǎng)定位 面向高附加值、高技術(shù)需求行業(yè) 面向傳統(tǒng)工業(yè)、建筑等基礎(chǔ)需求領(lǐng)域

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